北京硅片缺陷观测仪■适用于对硅片的缺陷观察效果，非常明显，包括肉眼无法观测的位错、层错、划痕、崩边等；
■使硅片缺陷观察工作简单化，准确化，同时大大的程度降低此项工作强度；
■实时对图像进行分析、测量和统计，提高传统光学仪器的使用内涵。配合投影仪和计算机等显示、存储设备，能更好的观测和保存研究结果；

硅片缺陷观测仪 位错层错划痕测定仪

型号：GR/HS-WDI

硅片缺陷观测仪(HS-WDI)，于对硅片的缺陷进行观察，效果非常明显，包括肉眼无法观测的位错、层错、划痕、崩边等。

北京硅片缺陷观测仪实时对图像进行分析、测量和统计，提高传统光学仪器的使用内涵。配合投影仪和计算机等显示、存储设备，能更好的观测和保存研究结果；产品特点

■适用于对硅片的缺陷观察效果，非常明显，包括肉眼无法观测的位错、层错、划痕、崩边等；
■使硅片缺陷观察工作简单化，准确化，同时大大的程度降低此项工作强度；
■实时对图像进行分析、测量和统计，提高传统光学仪器的使用内涵。配合投影仪和计算机等显示、存储设备，能更好的观测和保存研究结果；实时对图像进行分析、测量和统计，提高传统光学仪器的使用内涵。配合投影仪和计算机等显示、存储设备，能更好的观测和保存研究结果；产品特点

■适用于对硅片的缺陷观察效果，非常明显，包括肉眼无法观测的位错、层错、划痕、崩边等；
■使硅片缺陷观察工作简单化，准确化，同时大大的程度降低此项工作强度；
■实时对图像进行分析、测量和统计，提高传统光学仪器的使用内涵。配合投影仪和计算机等显示、存储设备，能更好的观测和保存研究结果；实时对图像进行分析、测量和统计，提高传统光学仪器的使用内涵。配合投影仪和计算机等显示、存储设备，能更好的观测和保存研究结果；产品特点

■适用于对硅片的缺陷观察效果，非常明显，包括肉眼无法观测的位错、层错、划痕、崩边等；
■使硅片缺陷观察工作简单化，准确化，同时大大的程度降低此项工作强度；
■实时对图像进行分析、测量和统计，提高传统光学仪器的使用内涵。配合投影仪和计算机等显示、存储设备，能更好的观测和保存研究结果；
■北京硅片缺陷观测仪使用 1/2"CMOS 感光芯片，具有体积小，技术*，像素较高， 成像清晰 、线条细腻、色彩丰富；
■传输接口为 USB2.0 高速接口， 软件模块化设计 ；
■有效分辨率为 200 万像素；
■所配软件能兼容 windows 2000 和 windows XP 操作系统。



推荐工作条件

■温度：23±2℃
■湿度：60%~70%
■无强磁场、不与高频设备邻近